CF-HJ
氮化硅陶瓷基板具有高強度、高韌性、高熱導率(130W/(m?k))、熱膨脹系數與Si、SiC、GaN等半導體相匹配等優點,非常適用于高功率模塊的封裝,被認為是陶瓷基板的優秀選擇。
我公司采用高純硅粉直接氮化工藝,通過對所用硅料、氮化工藝和細化工藝的獨特專利技術控制,制備出高純度、高α相含量、粒度分布窄、燒結活性高的基板級氮化硅粉體。
氮化硅陶瓷基板具有高強度、高韌性、高熱導率(130W/(m?k))、熱膨脹系數與Si、SiC、GaN等半導體相匹配等優點,非常適用于高功率模塊的封裝,被認為是陶瓷基板的優秀選擇。
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